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一、氫氣還原爐用途
       氫氣還原爐適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料、熒光粉的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理,材料在還原、惰性氣氛環境下進行燒結。

二、氫氣還原爐特點
       1、控制精度︰±1℃    爐溫均勻度︰±1℃(根據加熱室大小而定)。
       2、微電腦控制,操作方便,可編程,自動升溫、自動保溫、自動降溫。
       3、爐管采用剛玉99陶瓷。
       4、不銹鋼金屬法蘭密封(雙膠圈)
       5、爐體溫度接近室溫
       6、雙回路保護
       7、進口耐火材料,保溫性能好,耐溫高
       8、大真空度 -0.1Mpa
       9、可通多種氣體(氧氣、氮氣、氬氣、氫氣等)
       10、溫度類別︰1000℃    1200℃   1400℃   三種

三、氫氣還原爐參數
型號爐膛尺寸(mm)D×W×H功率(kw)高溫度℃額定溫度℃加熱元件電壓升溫速率
TDRG1400-20200×150×15051400℃1300℃ 碳棒220V≤20℃/min
TDRG1400-30300×200×20071400℃1300℃ 碳棒220V≤20℃/min
TDRG1400-30A300×250×25081400℃1300℃ 碳棒380V≤20℃/min
TDRG1400-40400×300×300121400℃1300℃ 碳棒380V≤20℃/min
注︰可根據用戶要求另行設計制造,不同規格及參數和詳細技術方案請來電咨詢!

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